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单面光刻机系统,本系统针对各大专院校、企业及科研单位,对光刻机使用特性研发的一种高精度光刻系统。一、单面光刻机系统技术参数1.曝光时间调解器:0.1至999.9秒(可调节精度0.1s);2.365-400nm光强传感及电源供应控制电路及反馈